IRCF
应用于图像传感器的滤光片和红外截止滤光片制作工艺分为镀膜,丝印,后加工,检测。 拥有多年量产经验的我们, 在高低折射率化学物质的叠加镀膜工艺中会通过减少薄膜内部残余应力和裂纹来有效确保产品的可靠性和生产良率。
特别是图像传感器类滤光片,不仅在制造过程中严格管控异物,在出货检查阶段更是通过高度精密自动化检测设备严格将异物管理把控在10μm一下。
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Film Filter

全球首次成功批量生产黑色丝印滤光片,并拥有全球最大量产能力,因智能手机的多功能相机大众化,其需求持续增加。
▶ 适用领域

▶ 优势

特向丝印

异物管理

量产能力
01
Black Masking Decenter管理
- 30㎛
02
拥有高度精密自动化检测装备管理异物 - AR 8㎛ / IR 10㎛
03
高产能
- 4000 万个/月
▶ 产品特性
Structure
AR Coating
Film
IR Coating
类别
Spec
0.11mm
Cut-On ≤ 3nm
Cut-Off ≤ 5nm
OD Max = 3.8
Very Good
Flare
Strength
Thickness
Color Shift
Characteristics
T50% ≤ 3nm
T10% ≤ 5nm
Cut-On Shift
Cut-Off Shift

NIR Stop Area(%)
Tavg ≥ 88% @ 481-560nm
Visible Pass Area T(%)
Tmax ≤ 0.2% @ 851~1050nm
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Blue Filter

奥托仑拥有世界级蓝色滤光片量产能力并随着中国多摄手机市场的需求不断壮大。
▶ 适用领域



▶ 优势

特向丝印

异物管理

量产能力
01
Black Masking Decenter管理
- 30㎛
02
拥有高度精密自动化检测装备管理异物 - AR 8㎛ / IR 10㎛
03
高产能
- 4000 万个/月
▶ 产品特性
Structure
类别
Spec
0.1mm & 0.21mm & 0.300mm
OD Max = 3.8
Good
Flare
Strength
Thickness
Color Shift
Characteristics
T50% < 10nm
T10% < 25nm
Tavg > 90% @ 430-560nm
Pass Area T(%)
Cut-On Shift
Cut-Off Shift
AR Coating

Organic Layer
IR Coating
Cut-On ≤ 3nm
Cut-Off ≤ 3nm
Blue Glass
Stop Area T(%)
Tmax<0.01% @ 800~1,100nm (OD>4)
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ORGANIC WHITE FILTER

在强化蓝玻璃和有机吸收性化学物质而制造而成的OWF,因性价比优势需求在不断扩大。
▶ 适用领域


▶ 优势

特向丝印

异物管理

量产能力
01
黑色遮蔽去中心管理
- 30㎛
02
通過自動檢查機 進行異物管理
- AR 8㎛ / IR 10㎛
03
全球最大的量產能力
- 4000 萬件/月
▶ 产品特性
Structure
类别
Spec
AR Coating
Organic Layer
IR Coating
Glass
0.1mm & 0.21mm
Cut-On ≤ 10nm
Cut-Off ≤ 5nm
OD Max = 3.5
Good
Flare
Strength
Thickness
Color Shift
Characteristics
T50% < 10nm
T10% < 10nm
Tavg ≥ 88% @ 476-56nm
Pass Area T(%)
Cut-On Shift
Cut-Off Shift

Stop Area T(%)
Tmax ≤ 0.1% @ 851~950nm (OD>3)
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Slim Film Filter

这是一种基于薄膜原材料的IRCC,可以克服玻璃基IRCF原材料的薄型化限制。
作为以0.11mm的厚度实现IRCF特性的薄型IRCF,市场正在扩大。
▶ 适用领域


▶ 优势

特向丝印

异物管理

量产能力
01
黑色遮蔽去中心管理
- 30㎛
02
通過自動檢查機 進行異物管理
- AR 8㎛ / IR 10㎛
03
全球最大的量產能力
- 4000 萬件/月
▶ 产品特性
类别
Spec
Structure
AR Coating
Film
IR Coating
Thickness
Thickness 0.11mm
Color Shift
Cut-On ≤ 10nm
Cut-Off ≤ 5nm
Flare
OD Max = 3.5
Very Good
Strength
Characteristics

Cut-On Shift
T50% ≤ 3nm
Cut-Off Shift
T10% ≤ 3nm
NIR Stop Area(%)
Tmax <0.1%
Visible Pass Area(%)
Tavg ≥ 90%
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